簡要描述：超細納米膠體磨的特點：具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性；該設(shè)備可以適用于各種分散乳化工藝，也可用于生產(chǎn)包括對乳狀液、懸浮液和膠體的均質(zhì)混合；三級膠體磨由定、轉(zhuǎn)子系統(tǒng)所產(chǎn)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加，從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。
產(chǎn)品型號： EDL2000
所屬分類：德國膠體磨
更新時間：2024-12-15
超細納米膠體磨，高剪切超細膠體磨，超細乳化設(shè)備，進口膠體磨，對于膠體磨來說zui大的一個目的就是要達到乳化的效果，那么從設(shè)備角度來說影響乳化效果的因素有哪些呢？
1、乳化頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）
2、乳化頭的剪切速率（越大，效果越好）
3、乳化頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）
4、物料在分散墻體的停留時間，乳化分散時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）。
5、循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）
另外線速度是衡量設(shè)備效果的一個重要的指標(biāo)
線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
–剪切速率 (s-1) = v速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
–轉(zhuǎn)子的線速率
–在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V=3.14 XD（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM/60
超細納米膠體磨，主要用于微乳液及超細懸浮液的生產(chǎn)。由于工作腔體內(nèi)三組分散頭（定子+轉(zhuǎn)子）同時工作，乳液經(jīng)過高剪切后，液滴更細膩，粒徑分布更窄，因而生成的混合液穩(wěn)定性更好。三組分散頭均易于更換，適合不同的工藝應(yīng)用。該系列中不同的型號的機器都有相同的線速度和剪切率，非常易于擴大生產(chǎn)。適宜的溫度，壓力與粘度參數(shù)與DISPERSING一樣。也符合CIP/SIP清潔標(biāo)準(zhǔn)，適合食品及醫(yī)藥生產(chǎn)。
SH-SINA自主研發(fā)生產(chǎn)的超細膠體磨，具有高轉(zhuǎn)速、低能耗、低噪音、高壽命等優(yōu)勢，經(jīng)過SH-SINA全體研發(fā)生產(chǎn)部員工的不懈努力，終于解決了SH-SIAN高剪切膠體磨的提速問題。市場上一般使用的膠體磨由于定轉(zhuǎn)子精度以及機械密封的原因，轉(zhuǎn)速zui高只能達到2910轉(zhuǎn)，而SH-SINA研發(fā)的立式分體式膠體磨將轉(zhuǎn)速提高到9000轉(zhuǎn)，從而更好的解決了市場的需求。
超細膠體磨的特點：具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性；該設(shè)備可以適用于各種分散乳化工藝，也可用于生產(chǎn)包括對乳狀液、懸浮液和膠體的均質(zhì)混合；三級膠體磨由定、轉(zhuǎn)子系統(tǒng)所產(chǎn)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加，從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。
型號 | 標(biāo)準(zhǔn)流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 標(biāo)準(zhǔn)線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
EDL2000/4 | 300-1，000 | 9，000 | 23 | 2.2 | DN25 | DN15 |
EDL2000/5 | 3，000 | 6，000 | 23 | 7.5 | DN40 | DN32 |
EDL2000/10 | 8，000 | 4，200 | 23 | 15 | DN50 | DN50 |
EDL2000/20 | 20，000 | 3，000 | 23 | 37 | DN80 | DN65 |
EDL2000/30 | 40，000 | 1，500 | 23 | 55 | DN150 | DN125 |
EDL2000/40 | 70，000 | 1，500 | 23 | 90 | DN150 | DN125 |
超細納米膠體磨信息來源于www.shsina。。ｃｏｍ
